在电子半导体，芯片，硅晶，电池等产品的制造过程中，超纯水中总有机碳TOC(Total Organic Carbon)的含量，是评估水中有机物含量的指标之一，对产品的质量和性能有着至关重要的影响。

　　在半导体制造工艺中，对于纯水设备和超纯水系统中的离子和有机污染物方面有最严格的要求。在其超纯水系统中控制和测量这些污染物已经使半导体制造企业能够提高产品质量和产能。水净化处理技术发展和这些污染物检测仪器的创新在改善和检测超纯水水质方面，已经发挥了重大作用。接着这些进步又推动超纯水中的各项污染物的允许极限值不断降低。

　　总有机碳(TOC)分析技术是用于监测超纯水有机污染物含量和“健康的”的超纯水系统的强有力工具。在过去数十年间，超纯水TOC项的检测极限降低了几个数量级，导致TOC含量检测极限从ppb级朝ppt级发展。随着未来的新一代芯片技术预计将达到更窄的线宽，半导体制造企业对超纯水的要求不仅是更低浓度含量的有机物和离子污染物，而且检测仪器也需要能够精确，快速地进行检测和响应。

　　为什么要脱除超纯水中有机碳?

　　超纯水中的有机碳(TOC)含量过高，对电子半导体会产生诸多不良影响：

　　1. 有机物和杂质残留在产品上，会导致电子元器件性能下降，失效。

　　2. 有机物在特定条件下，会发生氧化反应，导致半导体材料氧化和腐蚀，损坏电子器件的结构和功能。

　　3. 当有机物残留在水中时，会形成气泡或微小气体团附着在产品表面，损坏电子器件的结构和功能。

　　4. 降低超纯水的清洁效果，无法有效去除表面的污染物和杂质。

　　目前，ClearUV紫外线TOC脱除器，可以高效降解TOC，将超纯水有机碳TOC含量控制在行业安全范围内,以确保产品的品质和性能。